我國現(xiàn)在對于半導體的需求已經(jīng)超過了全球近三分之一，正是因為我們的需求量大，而又需要面對美國對我們的技術(shù)封鎖，我國最大的困境就是不能擁有獨立自主知識產(chǎn)權(quán)的芯片技術(shù)，很多方面都是需要進口的。如今，國產(chǎn)光刻機研發(fā)成功，網(wǎng)友：終于等到了!

據(jù)報道，上海微電子技術(shù)有限公司研發(fā)的22nm光刻機再次取得突破，成功打破西方技術(shù)壟斷。公司采用紫外光源成功實現(xiàn)了22nm工藝，使國內(nèi)光刻技術(shù)進步了一大步。如果光刻技術(shù)穩(wěn)定，能夠?qū)崿F(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)，將有利于國內(nèi)芯片制造業(yè)的發(fā)展。

這是一個很重要的科技進步，并且在技術(shù)上我們已經(jīng)超越了日本，成為了位居荷蘭之后的全球第二位，其實荷蘭的光刻機其中有不少都是美國的專利，所以他想遏制住我們是很簡單的，但是我們有了自己的光刻機那就會扭轉(zhuǎn)局勢。

22nm光刻機研制的成功也讓我們看到了我國光刻機發(fā)展的新突破，特別是對于未來中國芯片市場的發(fā)展，這無疑是至關(guān)重要的一環(huán)。不過，中國在半導體領(lǐng)域取得了新突破。但是，從國際市場形勢的變化來看，國內(nèi)光刻機的研發(fā)還有很長的路要走。

關(guān)鍵詞： 上海微電子